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CDM- TC30-4X中試納米粉體洗滌純化膜分離設備，是成都誠達膜過濾技術有限公司采用納米陶瓷膜技術，針對納米粉體（如金屬、半導體、陶瓷等細粉末，粒徑1 - 100nm ）設計的洗滌純化設備。傳統板框等難以**截留納米粉體，該設備憑借膜分離技術（涵蓋微濾、超濾等，設備有高分子卷式膜、陶瓷膜等 ），解決鈣、鈮等氧化物納米粉體洗滌除雜、工藝連續化難題。
其優勢顯著：分離精度高（1-1000納米 ），能**截留細粉體，透過液澄清；清洗***，無溶出物，可制高純度粉體；透過水可回用，洗滌參數可控助于提高粉體分散性；主體用衛生級不銹鋼，操作維護簡單，還可配置手動/半自動/全自動控制，洗滌用水經RO膜處理能降低成本 ，廣泛應用于納米粉體澄清過濾、分離精制等環節 ，助力納米粉體生產實現**、環保、優質的洗滌純化過程，產生良好技術經濟與社會效益 。
如四川某材料研究院采用CDM-TC30-4X系統，脫水產能40-60L/h，對氫氧化鉿、氫氧化鋯等納米粉體進行洗滌并富集濃縮，洗滌過程主要采用電導率≤2us/cm二級純化水作為溶劑，，洗滌過程操作簡單、用水量小，最終得到的粉體材料雜質少、純度高，滿足對方工藝產品要求。
TC30型納米粉體洗滌純化膜分離設備結合用戶物料性狀、產能需求、工藝除雜要求而量身設計，若您也有粉體洗滌純化的技術難題，歡迎致電成都誠達膜過濾技術有限公司，我們將根據您的具體情況，提供針對性的技術解決方案。