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廢氣在設備內通過具有一定能量的光照射，光敏半導體材料即被光激發出電子-空穴對，吸附在光敏半導體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴，從而發生一系列的氧化還原反應，使污染物降解為二氧化碳和水等物質。在外加紫外線的作用下，介質放電產生大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發一系列復雜的物理、化學反應，使復雜的大分子污染物轉變為簡單小分子安全物質，從而使污染物得以降解去除。然后極小部分未被裂解的污染物進入活性炭吸附床，有機污染物被吸附于活性炭的微孔之中，最終排放潔凈的氣體。
　　UV光催化氧化裝置＋活性炭吸附裝置產品性能：
　　1、**除惡臭：能**去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果超過**1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。
　　2、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。
　　3、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節約大量排風動力能耗。
　　4、無需溫濕度處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
　　5、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
　　6、較優質材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩定，使用壽命長。