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(1)光源的選擇
在線路板廠任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發射光譜曲錢。如果某種干膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發射主峰相重疊或大部分重疊，則兩者匹配良好，曝光效果**。國產干膜的光譜吸收曲線表明，光譜吸收區為310 ~440nm,鏑燈、高壓汞燈、碘鎵燈在310~ 440nnl波長范圍均有較大的相對輻射強度，是干膜曝光較理想的光源。

(2)曝光時間的控制
在曝光過程中，干膜的光聚合反應并非一見光就完成反應，而是需要一定的曝光時間進行充分的反應，當曝光不足時，由于單體聚合的不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條不清晰，色澤暗淡，甚至月嫌，在電鍍前處理或電被過程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。

當曝光過度時會造成難于顯影，膠膜發脆，留下殘膠等弊病；不正確的曝光將產生圖像線寬的偏差，過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細，使印制蝕刻的線條變粗，反之，曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細。為確定曝光時間，通常推薦使用瑞斯頓17級或斯圖費21級光密度尺。

線路板廠在曝光定位中還需注意的就是目視定位：目視定位通常適用于使用重氮底版，重氮底版呈棕色或桔紅色的半透明狀態，但不透紫外光，透過重氮圖像使底版的焊盤與印制板的孔重合對準，用膠帶固定即可進行曝光。


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