硅烷作為含硅薄膜和涂層的應用已從傳統的微電子產業擴展到鋼鐵、機械、化工和光學等各個領域。（深硅刻蝕）含硅涂層可使普通鋼的高溫耐氧化能力提高到10萬倍以上,也可使其它金屬的高溫化學穩定性大大改善，使內燃機葉片的耐蝕性明顯增強，使各種材料和零件之間的粘結強度大幅度提高，使汽車發動機零件的壽命延長，也可改變玻璃的反射和透射性能，從而得到顯著的節能和裝飾效果。在浮法玻璃生產過程中用硅烷在玻璃表面涂敷一層反光層其粘附力極強在長期陽光照射下不褪色, 透光率只有普通玻璃的1/3; 用氮化硅涂敷的大面積多晶硅電池（BSNSC) 已達到15.7%的**率。用硅烷氣相沉積技術制造各種含硅薄膜在高技術中的應用還在與日俱增。
電子級硅烷氣應用——蘇州離子束刻蝕公司小編來為大家娓娓道來：
電子級硅烷氣在半導體行業中主要應用于化學氣相沉積，化學氣相沉積(CVD)是通過氣體混合的化學反應,在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。硅片表面及其鄰近的區域被加熱來向反應系統提供所需的能量。化學氣相沉積膜中所有的物質都源于外部氣源。原子或分子會沉積在硅片表面形成薄膜。電子級硅烷氣是化學氣相沉積中最常見的氣體之一。
電子級硅烷氣在顯示面板行業中主要應用于TFT (薄膜晶體管) /LCD (液晶顯示器)的生產, TFT/LCD的每個像素點都是由集成在自身上的TFT來控制，是有源 像素點。因此,其具有體積小、重量輕、低輻射、低耗電量、全彩化、速度快、對比度和亮度高、屏幕觀察角度大、分辨率高等優點，目前主流的平面顯示設備。TFT/LCD的生產包括TFT陣列(包括薄膜、 光刻、刻蝕)、彩色濾光片 (包括黑矩陣膜、紅綠藍膜、透明導電層)、面板、模組等工序。在薄膜工序中，硅烷以及其他氣體在CVD制程(化學氣相沉積)的高頻交變電場作用下，解離反應沉積在玻璃基板表面，可形成耐水氣和金屬離子腐蝕的絕緣層、電子通道層、歐姆接觸層、以及致密度高和絕緣性佳的閥級絕緣層。電子級硅烷氣在光伏行業中主要應用于晶體硅太陽能電池生產工藝和薄膜太陽能電池生產工藝。商業化生產的晶體硅太陽能電池通常采用多晶硅材料,生產過程中需要在受光面上通過化學氣相沉積制作減反射膜，在該步驟中需要用到硅烷氣。商業化生產的薄膜太陽能電池分為非晶硅薄膜和非晶/微晶硅疊層薄膜，后者對太陽光的吸收利用更充分，生產過程中均需要使用化學氣相沉積法制作薄膜，在該過程中需要用到硅烷氣。
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資訊來源：離子束刻蝕
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