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概述
氨逃逸在線分析系統是天禹智控自主研發新型在線監測系統，該產品基于可調諧激光吸收光譜技術（TDLAS）的原理，可測量NH3、H2S、HCL、HF等氣體濃度。預處理系統采用熱濕法設計，該系統具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式光學測量等特點，為實時準確地反映逃逸氨的變化提供了可靠保證。
產品特點
● 采用熱濕取樣方法，不受現場安裝條件的限制，適用性廣，使用和維護簡單；
● 可靠的長光程加熱氣室設計；
● 超低濃度測量，分辨率可達0.1ppm；
● 高溫取樣，涂層氣室，取樣損失小于0.1ppm/米；
● 免標定設計，維護簡單，使用成本低；
可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）
1.可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）
該技術主要是利用可調諧半導體激光器的窄線寬和波長隨注入電流改變的特性實現對分子的單個或幾個距離很近很難分辨的吸收線進行測量。
2.可調諧半導體激光吸收光譜原理
TDLAS通常是用單一窄帶的激光頻率掃描一條獨立的氣體吸收線。為了實現高的選擇性，分析一般在低壓下進行，這時吸收線不會因為壓力而加寬。這種測量方法是Hinkley和Reid提出的，現在已經發展成為了靈敏和常用的大氣中痕量氣體的監測技術。
3.可調諧半導體激光吸收光譜的主要特點包括
(1) 高選擇性，高分辨率的光譜技術，由于分子光譜的“指紋”特征，它不受其它氣體的干擾。這一特性與其它方法相比有明顯的優勢。
(2) 它是一種對所有在紅外有吸收的活躍分子都**的通用技術，同樣的儀器可以方便的改成測量其它組分的儀器，只需要改變激光器和標準氣。由于這個特點，很容易就能將其改成同時測量多組分的儀器。
(3) 它具有速度快，靈敏度高的優點。在不失靈敏度的情況下，其時間分辨率可以在ms量級。應用該技術的主要領域有：分子光譜研究、工業過程監測控制、燃燒過程診斷分析、發動機效率和機動車尾氣測量、爆炸檢測、大氣中痕量污染氣體監測等。
技術參數
技術參數
測量原理
TDLAS
量程
0-10ppm（可定制）
分辨率
0.1ppm
重復性
≤1%FS
響應時間
15s
漂移
≤±1%FS
功能參數
預熱時間
30min
電源
AC 220V ±10V 50Hz
數字輸出
RS232/485、繼電器輸出
模擬輸出
4-20mA**負載900Ω
負載能力
AC/DC 24V/1A；濃度超限報警、透過率異常報警、激光器溫度異常報警
安裝方式
抽取式原位安裝
環境參數
相對濕度
≤90% RH，無結露
環境溫度
20~55℃
采樣流量
≤3L/min
典型應用
廣泛應用于燃煤發電廠、水泥廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制。
“氨逃逸”指的是SCR脫硝反應器出口測量出的氨濃度,單位ppm.因為氨本身的易揮發的特性,只要是有氨參與反應的場所都有揮發、都有未參與反應的氨的存在,這部分的氨就是所謂的氨逃逸.在SCR脫硝中,為了減少運行成本,降低氨逃逸對鍋爐下游設備的腐蝕,要盡量將氨逃逸控制在一定范圍內,一把SCR,反應器出口的氨逃逸一般不超過3ppm.
根據國家**的標準規定,SNCR脫銷氨逃逸標準為8mg/m3(10ppm),SCR脫銷氨逃逸標準為2.5mg/m3(3ppm).
氨逃逸濃度3ppm等于2.28mg/m.
氨逃逸率：一般來說,為SCR脫硝和SNCR脫硝工藝出口,未參與還原反應的NH3與出口煙氣總量的體積占比,一般計量單位為PPM, 如果用質量占比,為mg/M3. 也叫氨逃逸濃度.
理論上脫硫循環液滴定度為15時，脫硫效果是徹底的，但氨逃逸比較厲害，經過我們實際運行經驗一般控制在10~12個滴定度時,脫硫效果能達到98%-99% 而且氨逃逸較少，基本上SO2都能達到國家排放標準，當然通過雙塔結構降低脫硫液的溫度，來降低氨的逃逸也是可以的。
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